机译:等离子体喷雾物理气相沉积期间氧化钇稳定的氧化锆涂层的沉积机制
Beihang Univ Sch Mat Sci &
Engn Beijing 100191 Peoples R China;
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Yttria stabilized zirconia (YSZ); Microstructure; Deposition mechanism; Plasma spray physical vapor deposition (PS-PVD);
机译:准柱状结构化ytTria稳定氧化锆涂层通过等离子体喷雾物理气相沉积的微观结构和沉积机制
机译:等离子体喷涂物理气相沉积过程中氧化钇稳定的氧化锆涂层的沉积机理
机译:致密的yTTRIA稳定的氧化锆涂层,由等离子喷雾物理气相沉积制造
机译:等离子体喷涂物理气相沉积中拟柱YSZ涂层的沉积机理
机译:氧化钇稳定的氧化锆薄膜的物理气相沉积和金属有机化学气相沉积。
机译:等离子喷涂-物理气相沉积法制备硅酸Y涂层的组织与相
机译:通过电子束物理气相沉积和空气等离子喷涂制备的经氧化钇稳定的(重量百分比为7%至8%)氧化锆热障涂层的循环氧化失效比较