首页> 外文期刊>Электронная Обработка Материалов >Комплексообразование как фактор формирования состава Co-W покрытий, электроосажденных из глюконатного электролита
【24h】

Комплексообразование как фактор формирования состава Co-W покрытий, электроосажденных из глюконатного электролита

机译:作为涂层CO-W组成的形成的络合,电胶电解质

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
           

摘要

Благодаря гель-хроматографическому разделению глюконатного электролита, применяемого для получения нанокристаллических Co-W покрытий, фотоколориметрическому определению состава продуктов деления и определению электрохимической активности комплексов в интервале рН от 4,0 до 8,0 показано, что образование Co-W покрытий определенного состава обусловлено восстановлением смешанного гетерометаллического кобальт-вольфрамсодержащего комплекса с содержанием в нем вольфрама и кобальта в соотношении 1:1, а также кобальтовых комплексов в растворе. На состав образующихся покрытий влияет соотношение скоростей восстановления этих комплексов и реакции восстановления водорода, зависящих от рН электролита и гидродинамических условий.
机译:由于使用用于获得纳米晶体Co-W涂层的葡萄糖酸盐电解质的凝胶色谱分离,所示某种组合物的CO-W涂层的形成是由于恢复混合杂核钴-钨的络合物与溶液中的钨和钴含量,以及溶液中的钴络合物。所得涂层的组合物影响这些配合物的恢复率和氢气的反应,这取决于电解质和流体动力学条件的pH。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号