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GaNナノワイヤの有機金属気相成長法による形成と単一光子発生器への応用

机译:由GaN纳米线有机金属蒸汽蒸汽生长方法的形成和应用于单光子发生器

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摘要

独自に開発したGaNナノワイヤの無触媒有機金属気相成長法による作製技術(自己形成法および選択成長法)について、得られる結晶の形状に影響を与えるパラメータの熱力学的および反応工学的解析を行った。その結果、GdNナノワイヤは低過飽和度において形成されること、微細な構造の選択成長ではパターンの開口率を考慮して材料供給量を最適化する必要があること、が明らかになった。一方、高品質な単一光子発生器への応用を目指して、GaN/AlNヘテロ構造ナノワイヤにGaN量子ドットを組み込hだ素子を作製し、その光学特性を評価した。
机译:甘纳米线的制备技术(自成形方法和选择性生长法)产生的热力学和反应工程分析,其采用GaN纳米线的制备技术(自成形方法和选择性生长方法)独立地开发了稻田。 结果,清楚的是,GDN纳米线在低过饱和度下形成,并且精细的结构选择生长应考虑到图案孔径比来优化材料供应量。 另一方面,随着其应用于高质量单光子发生器的目的,将GaN量子点掺入GaN / AlN异质结构纳米线中,并且具有H的元素,其中制造本发明,其光学性质评估。

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