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パーティクル計測技術:パーティクル計測技術の動向

机译:粒子测量技术:粒子测量技术的趋势

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摘要

我が国における先端産業である半導体·液晶などのエレクトロニクス、精密工業、バイオテクノロジーなどの基盤技術として、クリーンルームに代表されるクリーン化技術の役割は大きい。 一般に空気には窒素、酸素、水分のほか、微量のガス状·分子状物質、粒子状物質、浮遊微生物などが含まれるが、クリーンルームは、本来、空気中の粒子状物質即ちパーティクルを制御するシステムとして開発され、超高性能フィルタによる空気中の粒子除去と清浄気流により発生した汚染物質の除去を目的としている。 現在では、粒子状の汚染物質に加え、ガス状·分子状の汚染物質など制御が行われているが、依然として、パーティクル汚染は、重要であり、その計測技術も当然ながら重要な課題である。 パーティクルの汚染制御のためには、発生源の対策、輸送過程の対策、表面汚染の対策、除去対策などがあり、計測技術としては、気中(空気·ガス)及び液中(純水·薬液)に含まれる粒子とウェーハ基盤などの表面上にある粒子の計測が基本となり、濃度(個数·質量)と粒径の計測が中心であるが、粒子の形状·組成の計測が必要な場合もある。本報告においては、空気中と表面における粒子の計測法を中心にその概要を述べる。
机译:作为一种基本技术,如电子产品,如半导体和液晶,这是日本前缘行业,一种基本技术,如生物技术,清洁室所代表的清洁技术的作用很大。通常,空气包括氮气,氧气和水分,少量气态,分子物质,颗粒物质,浮动微生物等,但是洁净室最初是一种控制颗粒物质或颗粒在其开发的空气中产生的系统,并且旨在通过超高性能过滤器去除空气中的颗粒去除和清洁空气流。目前,除了颗粒状污染物之外,还进行控制,例如气体和分子污染物,但粒子污染仍然很重要,而其测量技术也是一个重要问题。对于粒子污染控制,有措施对源,运输过程的措施,防止表面污染,去除措施等作为测量技术(空气和气体)颗粒和晶片底座中所含的颗粒的测量粒子的测量基本,浓度(数量,质量)和粒度的测量为中心,但也需要测量颗粒的形状和组成。是。在本报告中,将描述空气中的粒子测量方法的概要和表面。

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