首页> 外文期刊>電子技術 >銅をベースにしたセミアディティブ工法に対応した高選択性剤:セミアディティブ工法用ニッケルエッチング剤にツケルペース)
【24h】

銅をベースにしたセミアディティブ工法に対応した高選択性剤:セミアディティブ工法用ニッケルエッチング剤にツケルペース)

机译:高选择剂对应于铜基半添加剂结构方法:半添加剂法为镍蚀刻剂的镍速度)

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
       

摘要

配線パターンの微細化の進展に伴って、銅をベースとしたセミアディティブ工法の適用が主流となりつつある昨今であるが、パターンとして残したい金属とエッチングにより除去したい金属が同じであるため、さらに細線化が進hだ場合ごくわずかのパターン食われも無視できなくなる。 そこで当社は次世代の細線パターン形成方法としてニッケルをベースとした図1に示すようなセミアディティブ工法を提案し、当該工法に不可欠である高選択性ニッケルエッチング剤「メックリムーバーNH-1862」を紹介する。
机译:随着布线图案的小型化的进展,铜基半添加剂结构的应用正在成为主流,但由于金属被金属去除并蚀刻它们想要留下,因为如图所示公式H是进步的,轻微的饮食模式不能忽视。 因此,我们提出了一种如图1所示的半添加剂方法。基于镍作为下一代的薄线图案形成方法,并引入高度选择性的镍蚀刻剂“梅克去除NH-1862”,这对此是必不可少的方法。做。

著录项

  • 来源
    《電子技術》 |2002年第8期|共1页
  • 作者

    秋山大作;

  • 作者单位
  • 收录信息
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 jpn
  • 中图分类 电子电路;
  • 关键词

  • 入库时间 2022-08-20 15:43:13

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号