【24h】

A dummy pattern design system based on a CMP model

机译:基于CMP模型的虚设模式设计系统

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
           

摘要

A dummy pattern design system based on a CMP model is developed to reduce the global thickness variation by CMP process. Input data are GDS II formatted which is standard of LSI design. It is found that effective design has become possible because this system cooperates pattern calculations, CMP simulations, graphics, and dummy pattern design through CUI.
机译:开发了一种基于CMP模型的虚设模式设计系统,以减少CMP过程的全局厚度变化。 输入数据是格式的GDS II,其是LSI设计的标准。 结果发现有效的设计是可能的,因为该系统通过CUI协作模式计算,CMP模拟,图形和虚拟图案设计。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号