Моделирование процесса нанесения тонких пленок в установках магнетронного распыления с барабанным подложкодержателем

摘要

Представлена модель для расчета скорости магнетронного напыления покрытия в любой точке подложки, расположенной на вращающемся барабане, учитывающая распределение плотности тока в зоне эрозии мишени, ионно-электронную эмиссию материала распыляемой мишени и пространственное распределение потока распыленных частиц. Сравнение с экспериментальными данными по магнетронному распылению Al и W мишеней показывает, что расчетная толщина покрытия отличается от экспериментального значения не более чем на 10%, а эффективный коэффициент магнетронного распыления металлов соответствует энергии бомбардирующих ионов, равной половине напряжения разряда магнетрона.