При облучении оптических стекол и других диэлектриков электронами с энергией 1-5 МэВ и выше наблюдается их объемная электризация, связанная с захватом внедренного заряда и ростом напряженности электрического поля Е в объеме [1]. При флюенсах выше критического, этот эффект может вызвать спонтанные электрические разряды, приводящие, например, к аномалиям в работе оборудования искусственных спутников Земли [2], и к повреждению изолирующих элементов ядерных установок [3]. В данной работе исследовалась устойчивость внедренного в оптические стекла объемного электронного заряда к термическому нагреву. Модуль напряженности электрического поля Е в объеме облученных электронами стекол в процессе их нагрева измерялся с помощью поляризационной методики, использующей эффектКерра [4,5]. Поляризационная методика позволяет регистрировать только модуль напряженности электрического поля. Для исследования накопления объемного заряда в процессе облучения и его релаксации после облучения, а также в процессе термического отжига была использована методика исследования кинетики пространственного распределения электрического поля в прозрачных диэлектриках с помощью киносъемки в поляризованном свете. В этой методике широкий параллельный пучок света от источника проходит через поляризатор и попадает на облученный образец стекла, а затем через анализатор-в кинокамеру. Проявленная кинопленка фотометрировалась на микрофотометре, после чего производился расчет модуля напряженности электрического поля Е в любой точке исследуемого образца.
展开▼
