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【24h】

超音波援用研磨によるシリコンウエーハエッジのトリートメント②:実験装置の試作と二、三の加工実験

机译:通过超声辅助的抛光②硅晶片边缘的处理:开发和第二实验设备,第三处理实验

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摘要

著者らは、これらの問題を解決するために従来の研磨ヘッドを超音波楕円微振動ヘッドに置き換えたいわゆる超音波援用研磨法を提案した。これまで、まず研磨パッドへの超音波楕円微振動の付加によって表面粗さや材料除去率がどう変わるかなどの基礎特性について、ウエーハ表面の超音波援用研磨実験装置を製作して実験的調査を行い、その有用性を確認した。そして本技術の実用化を目指してエッジ部の超音波援用研磨が可能な実験装置を新たに製作し、二、三の研磨実験を行った。本稿では、実験装置の試作とそれを用いたエッジ部の研磨実験について解説する。
机译:作者提出了一种所谓的超声波挥舞抛光方法,用于用超声椭圆微观头替换传统的抛光头以解决这些问题。 到目前为止,通过将超声椭圆显微镜添加到抛光垫的基本特性和材料去除速率的改变,产生晶片表面的超声波并进行了实验调查。确认其有用性。 然后,新制造能够通过该技术的商业化的目的新制造能够进行超声波挥手挥手抛光的实验装置,并且进行了两个和三个抛光实验。 在本文中,我们描述了实验装置的原型和使用它的边缘部分的抛光实验。

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