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走査プローブ顕微分析技術の近年の進歩とその応用

机译:扫描探针显微技术及其应用的最新进展

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摘要

走査プローブ顕微鏡(SPM)という名称で総称される走査トンネル顕微鏡(STM)と原子間力顕微鏡(AFM)の測定技術は近年めざましく発展し,単結晶表面やその上の吸着層を分子·原子レベルで観測することを可能にした。 これらは,最近,表面状態の観測に止まらず,表面上で起こる化学過程の解析にも用いられるようになった。 本小文は,これらの手法を用いた研究の最近のトピックスを紹介する。 ST凪虻では,鋭い金属の探針を導電体表面上に近づけることでトンネル電流が生じることを利用し,それが一定となる間隔で探針を表面上に逮査させ,表面の状態像を原子分解能で得る方法である。 故に,金属や半導体の表面では,その像を得ることが容易であるが,絶縁体の表面では,その適応は困難であった。 Bobrovらは,STMを用い,ダイヤモンドの(100)面の原子像をダイヤモンドの仕事関数(5.3V)より大きな高いサンプルバイアス(5.9V)をかけることで,観測できることを見出した。
机译:通过扫描探针显微镜(SPM)的名称,扫描隧穿显微镜(STM)和原子力显微镜(AFM)的测量技术已经显着开发,并且单晶的吸附层及其总体分子和原子水平使得可以观察。这些最近被用于分析表面上发生的化学过程而不停止观察表面状况。这篇小型文本介绍了最近使用这些方法的研究主题。在St Atsuke中,使用隧道电流使用较近导体表面的锋利金属探针,它以恒定间隔将探针捕获,并且表面状态图像是通过原子分辨率获得的方法。因此,尽管易于在金属表面和半导体的表面上获得图像,但是在绝缘体的表面上难以进行适应。 Bobrov等人。使用STM,发现可以通过施加大于金刚石功函数(5.3V)的高样本偏压(5.9V)来观察金刚石(100)平面的原子图像。

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