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結像系収差補正電子顕微鏡(収差補正TEM)を駆使した微細構造解析手法の進展

机译:使用成像系统像差校正电子显微镜微结构分析方法的进展(像差校正TEM)

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摘要

結像系収差補正電子顕微鏡(収差補正TEM)の特長を最大限に引き出した一連の原子レベル·ナノレベル局所構造解析手法を紹介する.レンズ収差が無い利点とその特性を生かした原子位置直読観察法,電子線透過方向への分解能を生かした三次元情報計測やアモルファス内部クラスターの検出法など,最先端測定の有用性を解説する。
机译:引入了一系列原子水平纳米型局部结构分析方法,其最大化成像系统像差校正电子显微镜(像差校正TEM)的特征。 解释了切削刃测量的有用性,例如三维信息测量,其利用原子位置读取观察方法及其特性,以及在电子束中使用分辨率的非晶内部簇的检测方法传输方向。

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