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Ag触媒上でのNO選択還元反応におけるH_2添加による活性向上要因

机译:通过在Ag催化剂上没有选择还原反应,加入H_2的活性改良因子

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摘要

Ag触媒上でのC_3H_8によるNO選択還元反応において,微量のH_2の共存により活性が大幅に向上する。 本研究では,H_2添加による活性向上要因を機構論的に検討した。 UV-Visより,H_2によるAg~+ ionの還元凝集によりAg clusterが形成し,これが高活性種となることが示唆された。 一方in-situ IRより,H_2によりC_3H_8の表面CH_3COO~-への部分酸化が著しく促進されるため,N_2の生成が促進されることがわかった。 以上の結果をあわせて,H_2により還元凝集したAg cluster上で炭化水素の部分酸化が促進されることによりNO選択還元反応が促進されると結論した。
机译:在Ag催化剂上的C_3H_8的NO选择性还原反应中,通过痕量H_2的共存显着提高了活性。 在这项研究中,我们检查了通过增加H_2的活动改善因素的事实。 从UV-VI开始,建议通过通过H_2降低Ag至+离子的聚集来形成的Ag簇,这是一种高活性物种。 另一方面,由于C_3H_8对表面CH_3COO的部分氧化,从原位IR显着促进,发现促进了N_2的形成。 在上述结果中得出结论,通过促进与H_2的减少的聚集Ag簇促进烃的部分氧化,促进了无选择性还原反应。

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