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【24h】

フェニルシリル化で発現するAl_2O_3上でのエチレン水素化活性

机译:苯甲甲硅烷化中Al_2O_3上的乙烯氢化活性

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摘要

アルミナを773K以上で真空排気し,フェニルシランで修飾すると,193Kでエチレン水素化活性が発現することを見い出した。 水素化活性は極めて高く,La_2O_3やPt/SiO_2の活性を凌いだ。 活性発現には表面を脱水しAl~(3+)を露出させ,Ph基量を閾値0.5groups/nm~2を越えて導入し,比較的高温で表面シリル化を行うことが必要であった。 Ph基の働きとして,Al_2O_3のC-H結合解離能を低下させ,逆にC-H結合生成能を向上させることが明らかとなった。 反応中間体の性質はπ-アリルアニオン中間体とは異なり,π錯体型吸着の重要性が示唆された。
机译:氧化铝以773k或更大抽空,并且当用苯基硅烷改性时,发现在193k的乙烯氢化活性。 氢化活性非常高,并且存在于La_2O_3和Pt / SiO_2的活性。 将表面脱水,均暴露Al至(3+),并将pH基团引入超过阈值0.5粒/ Nm至2,并且需要在相对较高的温度下进行表面甲硅烷基化。。 显然,Al_2O_3的CH键解离子作为pH组的函数减少,并相反地提高了CH键生成能力。 与π-烯丙基阴离子中间体不同,反应中间体的性质表明它们是π复合吸附的重要性。

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