Development of new drum type polishing machine --a trial manufacture of a twin drum-type machine

著录项

• 来源
  《砥粒加工学会誌》 |1999年第12期|共6页
• 作者

  Kenji Sakai; Toshiroh Karaki Doy; Tsutomu Yamazaki; Kohji Narusawa; Hitoshi Ohmori; Toshio Kasai;

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• 作者单位

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• 收录信息
• 原文格式 PDF
• 正文语种 jpn
• 中图分类 磨削加工与磨床;
• 关键词

  Line contact polishing; Twin-type machine; CMP(chemical mechanical polishing) Air back pressure method; Polishing rate; Accuracy; Silicon wafer; Silicon oxide film; Planarization;

  机译：线路接触抛光;双床型机;CMP（化学机械抛光）空气背压法;抛光速率;精度;硅晶片;氧化硅膜;平面化;