［特別招待講演］ローエンドSiプロセスで高歩留り·温度無依存動作を実現する加工誤差自動補正機能を備えた超低クロストークWDM分波器

摘要

Si光集積回路は光導波路寸法ばらつきに由来する位相誤差が大きく、波長分離回路のクロストークを抑えるのが難しいという問題がある。この問題を解決する新しい分波器を試作·動作実証しECOC 2019にて報告した。本分波器を用いることで集積実装可能なシンプルな制御方法で約-50 dBの低クロストークを実現し、この技術により高歩留り、温度無依存が実現、WDMの集積密度やコストを大幅な改善が期待できることを示したが、本稿においてはその内容のレビューを行うと共に本技術の意義について説明する。