パターンドメディア用シリコンおよび石英モールド製造技術の開発状況

摘要

次世代の高密度磁気記録方式としてバターンドメディアの技術開発が進hでいる。その磁性体膜のパターン形成には、ナノインプリントリソグラフィが有力な手段として考えられている。ナノインプリントリソグラフィは1995年に当時ミネソタ大学のS.Chou教授が、インプリントで転写した樹脂層の残膜部を酸素アッシングで除去することでリソグラフィとして使えることを提案し、Nanoimprint Lithography（NIL）と命名した。この提案が、近年ナノインプリントがナノテクノロジー分野における量産技術として注目を集める出発点になっている。弊社ではNILが半導体リソグラフィとして半導体技術ロードマップ（International Technology Roadmap for Semiconductor: ITRS）の2003年版に、次世子°Cリソグラフィ（Next Generation Lithography: NGL）の候補技術の一つになったことから、半導体フォトマスクの延長上の技術と位置付け、ナノインプリントモールドの開発に取組hできた。そこで培われた技術を用いて、パターンドメディア用のモールド開発に着手した。パターンドメディアの生産には、電子線リソグラフィを用いて作成したマスターモールドから複製されたコピーモールトが使用されると考えられるが、本稿ではそのマスターモールトの開発状況について報告する。