首页> 外文期刊>Украинский физический журнал: Науч. журн. >Шаповалова И.П. Исследование выхода ео-електронов с поверхности тонких пленок при бомбардировке их (3-частицами из радиоактивных источн
【24h】

Шаповалова И.П. Исследование выхода ео-електронов с поверхности тонких пленок при бомбардировке их (3-частицами из радиоактивных источн

机译:shapovalova i.p. 从粉碎薄膜表面的eo-电子出口的研究(放射源3颗粒

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
           

摘要

Методом (e7)-совиадений проведено исследование выхода ео-электровов с поверхности тонких пленок при бомбардировке их β-частицами от радиоактивных источников152Eu, 154Eu и 22вКа. Установлено, что выход ео-электронов обратно пропорционален скорости налетающих β-частиц. Это говорит о том, что степень ионизации атомов мишени пропорциональна времени действия возмущения, создаваемого β-частицами, которые пролетают мимо.
机译:该方法(E7)-SDENCIES从放射源152EU,154EU和22V的β颗粒中轰击的薄膜表面进行了薄膜表面的研究。 已经确定,EO电子的产量与包含β-颗粒的速度成反比。 这表明靶原子的电离程度与由β颗粒产生的扰动的时间成比例,该β颗粒飞过。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号