首页> 外文期刊>Физика и техника полупроводников >Формирование нанопористых пленок силицидов меди
【24h】

Формирование нанопористых пленок силицидов меди

机译:铜硅化物的纳米多孔薄膜的形成

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
获取外文期刊封面目录资料

摘要

Экспериментально показана возможность формирования нанопористых пленок силицидов меди разного фазового состава. Для этого параметры исходной структуры a-Si/Cu и режимы ее отжига подбирали таким образом, чтобы процесс твердофазного синтеза останавливался на стадии образования разветвленного силицидного кластера. Затем пленки подвергали жидкостному травлению в смеси разбавленных неорганических кислот. При этом селективно удалялась метастабильная фаза Cu_xSi с низким содержанием меди и высвобождался трехмерный силицидный кластер. Одновременно вскрывались приповерхностные пустоты Киркендалла (Kirkendall voids), присутствующие в пленках. В результате совокупности этих двух процессов формировалась нанопористая структура.
机译:实验显示了形成各种相组合物的铜硅化铜硅化物的纳米多孔薄膜的可能性。为此,选择A-Si / Cu和退火模式的初始结构的参数,使得固相合成止槽在分支的Sylycide簇的形成阶段的过程中的方法。然后将薄膜在稀无机酸的混合物中进行液体蚀刻。同时,选择性地除去具有低铜含量的Cu_xSi的亚钼相,并释放三维Sylycide簇。与此同时,柯克内德(Kirkendall空隙)的近表面空隙,在电影中存在。由于这两种方法的组合,形成了纳米多孔结构。

著录项

  • 来源
  • 作者单位

    Ярославский филиал Физико-технологического института Российской академии наук 150007 Ярославль Россия;

    Ярославский филиал Физико-технологического института Российской академии наук 150007 Ярославль Россия;

    Ярославский филиал Физико-технологического института Российской академии наук 150007 Ярославль Россия;

  • 收录信息
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 rus
  • 中图分类 半导体物理学;
  • 关键词

获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号