...
首页> 外文期刊>Письма в "Журнал технической физики" >Моделирование процесса удаления примесей из полупроводниковых пластин в неоднородном температурном поле
【24h】

Моделирование процесса удаления примесей из полупроводниковых пластин в неоднородном температурном поле

机译:在非均匀温度场的从半导体板的杂质的去除处理的仿真

获取原文
获取原文并翻译 | 示例

摘要

Показано, что при высоких значениях градиента температуры, приложенного перпендикулярно поверхностям полупроводниковой пластины, можно добиться выхода примеси, распределенной в приповерхностной области пластины, на ее поверхность. Проведено машинное моделирование термодиффузии примеси из гауссова источника, залегающего в приповерхностной области, и для случая равномерного распределения примеси. Получены кривые, иллюстрирующие накопление примеси вблизи поверхности, и найдены стационарные решения, совпадающие в обоих случаях при условии одинакового количества загнанной примеси.
机译:结果表明,在垂直于半导体板的表面施加的高温梯度值,可以实现在其表面上分布在板的近表面区域中的杂质出口。在近表面区域中发生高斯源的杂质热扩散的机器建模,以及杂质分布均匀分布的情况。获得曲线,示出了表面附近的杂质,并且发现固定溶液,其在两种情况下在相同量的杂质的条件下重合。

著录项

获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号