Источник ЭУФ лазерно-индуцированного излучения высокой яркости на основе оловянной плазмы с неограниченным ресурсом электродов

摘要

Исследованы характеристики источника лазерно-индуцированного излучения экстремального ультрафиолетового (ЭУФ) диапазона, которое получено в разряде между двумя струями жидкого олова, и продемонстрирована возможность создания на его основе источника ЭУФ излучения высокой яркости для использования в технологиях инспекции масок для проекционной ЭУФ литографии. Получена средняя эффективность конверсии электрической энергии в излучение спектрального диапазона 13.5 ± 0.135 нм, равная примерно 2%12π ср, с размером излучающей плазмы 0.2x0.35 мм. Продемонстрирована возможность создания источника ЭУФ излучения с яркостью около 200 Вт/(мм~2·ср).