首页> 外文期刊>Физиκа плазмы >НЕСАМОСТОЯТЕЛЬНЫЙ ТЛЕЮЩИЙ РАЗРЯД С ЭЛЕКТРОСТАТИЧЕСКИМ УДЕРЖАНИЕМ ЭЛЕКТРОНОВ, ПОДДЕРЖИВАЕМЫЙ ПУЧКОМ БЫСТРЫХ НЕЙТРАЛЬНЫХ МОЛЕКУЛ
【24h】

НЕСАМОСТОЯТЕЛЬНЫЙ ТЛЕЮЩИЙ РАЗРЯД С ЭЛЕКТРОСТАТИЧЕСКИМ УДЕРЖАНИЕМ ЭЛЕКТРОНОВ, ПОДДЕРЖИВАЕМЫЙ ПУЧКОМ БЫСТРЫХ НЕЙТРАЛЬНЫХ МОЛЕКУЛ

机译:用一束快速中性分子支持的电子延伸不适当的放电

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
           

摘要

Приводятся результаты исследования плазмы, образующейся при давлении азота 0.2-1 Па в камере объемом V≈0.12 м~3 в результате инжекции в нее широкого пучка нейтральных молекул азота с энергией 1-4 кэВ и эквивалентным током 0.1-1 А. Зависимости пространственного распределения концентрации плазмы от эквивалентного тока пучка I_v, его энергии E_b и давления газа p, свидетельствуют об определяющем вкладе в ионизацию газа быстрых молекул, а зондовые характеристики обнаруживают в плазме две группы электронов с температурами Т_е ~ 0.4 эВ и Т_е ~ 16 эВ. При погружении в плазму изолированного от камеры электрода и подаче на него напряжения U положительной полярности возникает несамостоятельный разряд. G повышением U от ~0.5 В до ~1.5 В ток разряда I быстро достигает некоторой величины I~*, а затем темп его роста dI/dU снижается на порядок. При напряжении U~10 В ток I повышается до I_o≈1.5I~*, a dI/dU снижается еще на порядок. Ток I_o определяется числом образующихся в камере в единицу времени электронов и возрастает с увеличением Е_b, 1_b и р. При U > 20 В благодаря ионизации газа быстрыми электронами, эмитированными камерой и ускоренными в слое между ее стенками и плазмой до энергии ~eU, рост тока I возобновляется. С увеличением U до ~50 В быстрые электроны с энергией, превышающей порог ионизации, начинают образовываться непосредственно в слое, и интенсивность ионизации резко возрастает. При U > 150 В вклад в ионизацию газа быстрых электронов уже превышает вклад быстрых молекул, а концентрация плазмы в камере и однородность ее распределения заметно повышаются. Однако и в этом случае разряд остается несамостоятельным и перестает погасать при отключении источника пучка лишь при U > 300 В.
机译:等离子体研究的结果在腔室体积v≈0.12m〜3中为0.2-1Pa的氮气压力给出,由于注射到宽的中性氮素分子,其能量为1-4 kev和等效电流0.1-1A。浓度空间分布的依赖性来自等效电流电流I_V的等离子体,其E_B能量和气体压力,表示对快速分子的气体电离的限定贡献,并且在等离子体中检测探针两组电子带温度T_E〜0.4 EV和T_E〜16 EV。当从电极室浸入等离子体中的等离子体中并且正极性的电源电压U发生非独立的放电。 G通过在放电电流中增加〜0.5 V至〜1.5,我快速达到一定的值I〜*,然后其增长率di / du的速率正在下降。在电压U〜10,电流I增加到I_O≈1.5i〜*,DI / DU甚至减少了一个幅度。电流I_O由腔室中产生的电子时间的数量决定,并且随着E_B,1_B和P的增加而增加。在U> 20由于快速电子的气体电离而在U> 20,发射室并在其壁和等离子体之间加速到能量〜Eu之间的层,因此恢复电流增加。随着在快速电子中的u到〜50的增加,具有超过电离阈值的能量,开始直接形成层,并且电离强度急剧增加。在U> 150处,快速电子的气体电离已经超过了快速分子的贡献,并且腔室中的等离子体浓度和其分布的均匀性显着增加。但是,在这种情况下,当光束源仅在U> 300 V时断开时,放电仍然不恰当,并且不再停止。

著录项

  • 来源
    《Физиκа плазмы》 |2011年第4期|共9页
  • 作者单位

    Московский государственный технологический университет "СТАНКИН";

    Московский государственный технологический университет "СТАНКИН";

    Московский государственный технологический университет "СТАНКИН";

  • 收录信息
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 rus
  • 中图分类 等离子体物理学;
  • 关键词

获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号