UV光直接描画法を用いたPMMA平面光導波路作製における2段階照射による深さ方向の屈折率分布制御

摘要

PMMA（Poly-Methyl Methacrylate）は紫外（UV）光照射によって試料表面層に屈折率上昇が生じる．UV光照射でコアを形成することによって，PMMA平面光導波路作製が可能である．これまでに，強度マスクを用いた平面光導波路作成例が報告されているが，本報告では細径UV光ビームを用いたマスクレスのUV光直接描画法を用いた導波路作製においてコアの深さ方向の制御を行うために2段階でUV光を照射する方法について報告する．平面光導波路作製にあたり，UV光照射量に対する屈折率上昇率をエリブソメータを用いて調査し，その結果から直接描画法と2段階照射によるPMMA基板上への導波路作製した．作製した導波路の透過光強度分布を求めることで深さへの影響を40μm程度抑えたことを報告する．