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金属回折格子によるSOIフォトダイオードの感度向上

机译:金属衍射光栅SOI光电二极管的敏感性改进

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摘要

SOI(silicon-on-insulator)技術による集積回路は,バルクシリコンのものと比較して動作速度,消費電力や集積度などの点で優れているが,SOI膜厚は200nm以下とする場合が一般的で光吸収層が薄いため,十分な感度を有する光検出器を作り込むことは困難であった.本報告ではその解決方法の一つとして,SOIフォトダイオード上にライン·アンド·スペース型の金属回折格子を配置する方法によって,特定の波長·偏光に対して感度をおよそ1桁向上できることを,実際に作製した金の回折格子付SOIフォトダイオードの測定結果に基づいて説明する.
机译:SOI(绝缘体上)技术的集成电路在与散装硅相比的操作速度,功耗,集成等方面具有优异的操作速度,功耗,集成等,但由于光吸收层是灯泡薄膜厚度为200nm或更小。薄,难以创建具有足够灵敏度的光检测器。 在本报告中,作为一个解决方案之一,实际上可以通过在SOI光电二极管上布置线和空间型金属衍射光栅的方法来提高对特定波长和偏振的敏感性。SOI光电二极管的测量结果将描述在膜中制备的金衍射光栅。

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