Анодные процессы на пассивных NiSi-, FeSi- и CoSi-электродах в сернокислом фторидсодержащем электролите

摘要

Методами поляризационных и импедансных измерений исследованы механизм и кинетика анодного окисления NiSi-, FeSi- и CoSi-электродов в растворах 0,5 M H_2SO_4 + (0,005-0,05) M NaF в области пассивного состояния. Определены состав и строение оксидных пленок на NiSi, FeSi и CoSi. Рассчитаны коэффициент диффузии кислородных вакансий внутри барьерного слоя на NiSi и толщина пористого слоя на NiSi, FeSi и CoSi в зависимости от потенциала и концентрации NaF.