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ワイドギャップ半導体の結晶成長技術-高度環境·エネルギー社会に向けて-シリサイド半導体(BaSi_2)を用いたSi系薄膜結晶太陽電池を目指して

机译:宽隙半导体晶体生长技术 - 针对使用硅化物半导体(Basi_2)的Si基薄膜晶体太阳能电池,用于先进的环境和能量

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摘要

シリサイド半導体の1つであるバリウムシリサイド(BaSi_2)は,資源の豊富なSiとBaからなり.Baサイトの半数をSrで置換することで,その禁制帯幅を太陽電池に相応しい1.4eVに制御できる.また,光吸収係数が非常に大きく,1.5eVの光子に対し10~5cm~(-1)に達する.この値は,カルコパイライトに匹敵する.さらに,Si(111)面にエピタキシャル成長が可能である.筆者は,これらの特徴を生かしたSi系の薄膜結晶太陽電池を目指して研究している.本稿では,分子線エピタキシー法により,Si(111)基板上およびSiO_2基板上に形成したBaSi_2膜について,分光感度特性を中心に,研究の進捗状況を紹介する.
机译:硅化钡(Basi_2)是硅化物半导体之一,由富氏Si和Ba组成。 通过用SR替换BA站点的一半,可以将禁用带宽控制为1.4 EV对应于太阳能电池。 而且,光吸收系数非常大,对于1.5VeV光子,达到10至5cm(-1)。 该值与氯偶特相当。 此外,在Si(111)平面上可以进行外延生长。 我正在研究一种基于SI的薄膜晶体太阳能电池,这是利用这些特征。 在本文中,通过分子束外延介绍了在SiO_2基板上形成的Si(111)基板和Basi_2膜的研究进展。

著录项

  • 来源
    《金属》 |2009年第1078期|共5页
  • 作者

    末益崇;

  • 作者单位

    筑波大学大学院数理物質科学研究科電子·物理工学専攻;

  • 收录信息
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 jpn
  • 中图分类 金属材料;冶金工业;
  • 关键词

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