量子プロセス設計研究分野

摘要

本研究分野は,レーザーを中心とした高輝度光源を利用した新しい素材·材料プロセスおよび新しい分析·評価方法の開発を目指している。 具体的なテーマとして現在は，レーザー光を用いた素材精製プロセスの基礎研究や新素材創製プロセス，微細構造作製プロセス，原子ビーム表面分析·評価法などの開発を進めている。 本年度の本研究分野に関する人事異動として,米山俊夫助手が3月31日付けで退職,中村貴宏助手が4月1日付けで着任するとともに，新たに4名の大学院生が研究活動に加わった。