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【24h】

Al{sub}2O{sub}3コートしたNiFe薄膜におけるAFM局所酸化電流測定

机译:涂层NiFe薄膜中的A1 {Sub} 2 O {Sub} 3 AFM局部氧化电流测量

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摘要

原子間力顕微鏡(AFM)を用いた加工技術に、AFM探針-試料間にバイアス電圧を印加し、試料の探針周辺部に局所酸化反応を誘起する陽極酸化がある。 金属への酸化については、探針と試料表面との接触によるものと考えられる電流が多く流れ、酸化物が安定して形成されにくい。 しかし、金属表面に酸化物を積層させることで金属表面と探針の接触を避け、安定して酸化物を形成することができる。 また、金属が疎水性を示すのに対して、酸化膜層は親水性であるため、陽極酸化がより安定して行われることも考えられる。 我々は今回、Fig.1に示すような測定系において探針に流れる電流を測定し、酸化膜層による酸化の安定化について検討した。
机译:使用原子力显微镜(AFM)在AFM探针样本之间施加偏置电压,并且阳极氧化是阳极氧化,其在探针周围诱导局部氧化反应。 关于金属氧化,许多所认为是由于探针和样品表面之间的接触,并且氧化物很难稳定地形成。 然而,通过层叠在金属表面上的氧化物,可以稳定地形成金属表面和探针的接触以形成氧化物。 此外,虽然金属表现出疏水性,但氧化膜层是亲水的,因此还更稳定地进行阳极氧化。 我们测量了在测量系统中流过探针的电流,如图2所示。如图1所示,通过氧化膜层检测氧化的稳定。

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