ポストアニーリング法を用い作製した異方性Nd-Fe-B系ナノコンポジット磁石膜

摘要

基板加熱を利用したスパッタリング法を用い作製するNd-Fe-B系異方性磁石膜は、その作製時において比較的長時間の加熱を必要とするため、結晶粒の微細化は困難であり、微細組織を必要とするナノコンポジット磁石膜への作製プロセスとしては適していない。 その一方で、奥田らは360°C程度に加熱した基板上に成膜したNd-FeB膜に、さらに熱処理を施すことにより約400nmの粒径を有する異方性Nd-Fe-B磁石膜の作製を報告している。ポストアニーリングを用いた手法は、基板加熱手法に比べ粒径制御が比較的容易であり、ナノコンポジット磁石膜の作製手法として有利と考えられる。 本実験では、ポストアニーリング法による異方化手法に加えて基板加熱とTa/Nd-Fe-Bの多層膜を利用した異方性Nd-Fe-B系磁石膜の上原らによる実験報告も同時に鑑み、基板加熱を施すことなく成膜したNd-Fe-B/Taの多層膜にポストアニーリングを施すことで、異方性Nd-Fe-B/α-Feナノコンポジット磁石膜の作製を試みた。 本稿ではその結果について報告する。