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TiAl金属間化合物の高温酸化に及ぼすAlの溶融塩電析処理による効果

机译:Al熔盐电沉积处理对Tial金属间化合物高温氧化的影响

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摘要

AlF_3含むNaCl-KCl溶融塩中,定電位カソード分極によりTiAl上にAlを電析させ,電析層を生成し,その耐酸化性を調べた。 得られた結果は以下のとおりである。 (1)電着物の質量は,分極電位の低下に伴うカソード電気量の増加とともに増加した。 また,電着反応の電流効率は高かった。(2)-1.3~-1.6Vで形成された電析物は層状の形態を呈し,その構成物はTiAl_3であった。 これらの電析物はTiAlを均一に被覆し,TiAlとの密着性は良好であった。 分極電位の低下は電析層の厚さを増大させた。 (3)電析層を被覆したTiAlを1273K,大気中で酸化した結果,酸化増量は極めて小さかった。 この場合, 電析層表面には保護的なα-Al_2O_3皮膜の形成が認められた。
机译:在NaCl-KCl熔盐含有AlF_3期间,通过电位阴极极化的Al电沉积通过肺部阴极偏振,产生静电隔离层,检查其抗氧化性。 获得的结果如下。 (1)由于偏振电位的降低,电沉积质量随着阴极电量的增加而增加。 电流效率电沉积反应高。 (2)-1.3〜分析物电沉积在-1.6V形成的层状,结构是TiAl_3的形式。 这些导电分析物是均匀涂覆的TiAl,Tial之间的粘附性好。 降低偏振电位增加导电分离层的厚度。 (3)静电隔离层1273K涂覆在空气中氧化结果的Tial涂覆,氧化体重增加非常小。 在这种情况下,观察到在电沉积分离层表面上形成保护α-Al_2O_3涂层。

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