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机译:易于可控沉积参数的单个磁控溅射沉积二元FECR(AISI 430)薄膜的特征
Balikesir Univ Phys Dept Sci &
Literature Fac TR-10145 Balikesir Turkey;
Balikesir Univ Phys Dept Sci &
Literature Fac TR-10145 Balikesir Turkey;
Karamanoglu Mehmetbey Univ Kamil Ozdag Sci Fac Phys Dept TR-70100 Karaman Turkey;
Balikesir Univ Phys Dept Sci &
Literature Fac TR-10145 Balikesir Turkey;
Balikesir Univ Phys Dept Sci &
Literature Fac TR-10145 Balikesir Turkey;
FeCr thin films; AISI 430; Deposition rate; Rotation speed; Magnetic properties; Structural properties; dc sputtering technique;
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