机译:使用曝光响应分析和Monte Carlo映射功率的比较剂量测距研究模型通知设计(MCMP)
Vertex Pharmaceut Inc Boston MA USA;
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机译:使用曝光响应分析和Monte Carlo映射功率的比较剂量测距研究模型通知设计(MCMP)
机译:随机图的统计推断:通过蒙特卡洛进行比较功效分析
机译:对在临床质子束辐照的体素化几何体中计算的剂量平均线性能量转移图的不同蒙特卡罗评分方法的批判性研究。
机译:基于剂量和能量的映射方法在变形解剖中4D蒙特卡洛剂量计算的比较
机译:通过蒙特卡洛分析验证了临界瞬态伽玛和中子剂量方程,并与已知的临界事故剂量进行了比较。
机译:蒙特卡洛计算能量范围为50–400 MeV的质子的EBT3和EBT-XD薄膜的质量阻止能力
机译:随机图的统计推断:蒙特卡罗比较幂分析