机译:线边缘粗糙度诱导的双金属栅极翅片场效应晶体管变性变性
Hangzhou Dianzi Univ Minist Educ Key Lab RF Circuits &
Syst Hangzhou 310018 Peoples R China;
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Syst Hangzhou 310018 Peoples R China;
Line-Edge Roughness (LER); Fin Field-Effect Transistor (FinFET); Dual-Metal Gate (DMG);
机译:线边缘粗糙度诱导的双金属栅极翅片场效应晶体管变性变性
机译:使用具有均匀功函数的非晶金属栅抑制双栅鳍式场效应晶体管的阈值电压变化
机译:双金属栅极技术,具有金属插入的全硅化物叠层和富镍的全硅化物栅电极,使用单个富镍的全硅化物相用于规模化的高k互补金属氧化物半导体场效应晶体管
机译:双金属栅极翅片场效应晶体管性能的工作功能变化研究
机译:电解质门控碳纳米管场效应晶体管装置
机译:一次性编程非易失性存储器中使用的单个多晶硅栅全能无结鳍式场效应晶体管
机译:具有双金属栅极的新型栅极正常隧道场效应晶体管