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机译:通过使用网格网格控制纳米颗粒尺寸和量,并在硅烷ICP-CVD过程中向基材施加DC偏压
Chungnam Natl Univ Dept Phys Daejeon South Korea;
Seoul Natl Univ Dept Mat Sci &
Engn Seoul South Korea;
Chungnam Natl Univ Dept Phys Daejeon South Korea;
Korea Res Inst Stand &
Sci Vacuum Ctr Daejeon South Korea;
Korea Res Inst Stand &
Sci Vacuum Ctr Daejeon South Korea;
Si nanocrystal; Charged nanoparticles; Substrate bias; ICP-CVD; Nanoparticles in plasma;
机译:通过使用网格网格控制纳米颗粒尺寸和量,并在硅烷ICP-CVD过程中向基材施加DC偏压
机译:底物偏压对ICP-CVD工艺带电硅纳米粒子沉积行为的影响
机译:用于控制点击反应性炔烃基团的表面面积密度的混合硅烷单层:评估在平坦基材上优先吸附表面的方法和验证纳米颗粒上组成均匀性的方法
机译:底物偏置对ICP-CVD方法合成的碳纳米管结构和场发射性的影响
机译:使用辅助转换器端子控制的网状连接直流电网的快速分支电流控制
机译:致力于在连续气相方法中工业规模合成尺寸可控的超纯单重态纳米颗粒
机译:脉冲射频氩-硅烷等离子体中硅纳米粒子到基板的受控通量