>With regard to Secondary Ion Mass Spectroscopy (SIMS) measurement of atmospheric gas elements, a problem occ'/>
机译:在TOF-SIMS深度分析中检测次级离子对检测到的二次离子的影响及估算含有组分的方法
Toray Research Center Inc.Surface Science Laboratory3‐3‐7 Sonoyama Otsu Shiga 520‐8567 Japan;
Toray Research Center Inc.Surface Science Laboratory3‐3‐7 Sonoyama Otsu Shiga 520‐8567 Japan;
background; depth profiling; raster; residual gas; sputtering; time‐of‐flight secondary ion mass spectrometry;
机译:在TOF-SIMS深度分析中检测次级离子对检测到的二次离子的影响及估算含有组分的方法
机译:LC-QTOF MS的凌桂珠 - GAN汤分析及QAMS法同时测定九种主要成分的同时测定
机译:XPS深度剖析的方法方面,用于研究燃料电池组件
机译:简化板和管件中残余应力分布的简化方法
机译:使用ToF-SIMS和簇离子束进行分子深度分析和楔形坑斜切
机译:主成分分析(PCA)辅助的飞行时间二次离子质谱(ToF-SIMS):一种通用的方法自组装单层和多层膜的研究纳米器件自下而上方法的前体
机译:使用ToF-SIMS深度剖析研究复杂聚合物涂料配方中次要成分的分布
机译:包含在短圆柱形腔室中的涡流中的速度分量和径向压力分布的实验曲线