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机译:低温高密度多ICP源的PE-ALD工艺研究SIN和SICN薄膜生产
Department of Physics Korea Advanced Institute of Science and Technology;
R&
D Center Wintel Corp;
Department of Physics Korea Advanced Institute of Science and Technology;
High-power; High-density; Multi-ICP nitrogen plasma; PE-ALD; Low-temperature;
机译:低温高密度多ICP源的PE-ALD工艺研究SIN和SICN薄膜生产
机译:H-2 / N-2 / Ar /六甲基二硅氮烷混合气体中SiC:H至SiN:H组成的SiCN:H薄膜的微波等离子体合成
机译:具有高密度螺旋等离子体的单源硅前体使用单源硅前体的高速合成SICN薄膜
机译:电感耦合高密度射频等离子体源的PECVD技术低温加工SiO_2薄膜
机译:利用低温等离子体工艺制备离子导电薄膜的研究
机译:高温下压力传感用SiCN厚膜和薄膜的表征
机译:一种高效的PE-ALD工艺,用于采用新型Ti-Beforsor的TiO2薄膜