首页> 外文期刊>Известия высших учебных заведений. Химия и химичесκая технология >НЕКОТОРЫЕ АСПЕКТЫ ПРОИЗВОДСТВА ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ МИКРОСХЕМ: ЗАКОНЫ МУРА, МЕЖДУНАРОДНАЯ ТЕХНОЛОГИЧЕСКАЯ КАРТА ДЛЯ ПОЛУПРОВОДНИКОВ И ОСНОВНЫЕ ВЫЗОВЫ В СОВРЕМЕННОЙ ТЕХНОЛОГИИ ПРОИЗВОДСТВА ИНТЕГРАЛЬНЫХ МИКРОСХЕМ
【24h】

НЕКОТОРЫЕ АСПЕКТЫ ПРОИЗВОДСТВА ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ МИКРОСХЕМ: ЗАКОНЫ МУРА, МЕЖДУНАРОДНАЯ ТЕХНОЛОГИЧЕСКАЯ КАРТА ДЛЯ ПОЛУПРОВОДНИКОВ И ОСНОВНЫЕ ВЫЗОВЫ В СОВРЕМЕННОЙ ТЕХНОЛОГИИ ПРОИЗВОДСТВА ИНТЕГРАЛЬНЫХ МИКРОСХЕМ

机译:半导体微电路的某些方面:摩尔规律,半导体国际技术卡以及现代技术生产集成电路的主要挑战

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
           

摘要

В данном кратком обзоре рассматриваются и обсуждаются некоторые главные проблемы производства полупроводниковых микросхем, такие как 1-й и 2-й законы Мура, международная технологическая карта для полупроводников, последние тренды технологии производства, исследования и развитие и текущие производственные вызовы такие как проблемы фундаментальные (Пуассоновский дробовой шум - статистическая флюктуация- для ряда частиц типа атомов, заполняющих элементарный безразмерный объем ), технологические проблемы -улучшенная технология структуры и литография экстремального ультрафиолета, конструирование оборудования для производства современных микросхем и имеющие к этому отношение бизнес факторы (экстремально высокая стоимость производства и возможности исследований и развития).
机译:半导体芯片生产的一些主要问题,如第1和第2摩尔规律,一个用于半导体的国际技术卡,最新的生产技术,研发趋势,开发和现有的生产挑战,如基本和目前的生产挑战等在本综述破坏性噪声波动中也考虑并讨论了基本问题(泊松挑战,并讨论了填补了填充了基本维度体积的原子类型的多种颗粒),技术问题 - 极端紫外线结构和光刻的印记技术。生产现代芯片和相关业务因素的设计设备(极高的生产成本和研究能力和开发)。

著录项

相似文献

  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号