可視光型光触媒と光触媒技術の新展開：光触媒最新媒技－非接触酸化反応と光触媒リソグラフイー法

摘要

光触媒の酸化分解反応は2mm程度離れても起こることが分かった。 この非接触酸化反応は接触型に比べて遅いが、強い酸化反応であることからヒドロキシルラジカルなどの強い活性種が寄与すると見られる。 この反応を固体表面パターニングに応用する光触媒リソグラフィーの研究が進められている。