フラウンホーファー表面工学·薄膜研究所（IST） （2）--'ガスフロースパッタリング'

摘要

今回は、前号まで連載してきたINMをいったh離れ、2002年4月号で紹介したフラウンホープァー表面工学·薄膜研究所（IST）の第2弾として、高速/低ダメージ/低設備コスト成膜法として有機EL用保護膜形成などに有望視されているガスフロースパッタリング（GFS）を紹介する。 INMの技術は、次号で今話題のフラウンホープアー電子ビーム·プラズマ研究所（FEP）の"パルスバッケージ"を紹介後、再開する予定である。 薄膜材料の中でAl_2O_3、TiO_2、ITOなどに代表される透明酸化膜は重要な役割を果たしており、さまざまな用途、特に光学的な分野で広く使われている。これらの薄膜の作成には、多くの場合、真空蒸着法か、マグネトロンスパッタ法が円いられる。しかしながら、真空蒸着法は膜密度や膜厚均一性が不十分という問題が生じることが多々あり、一方、マグネトロンスパッタ法の不利な点は成膜速度やターゲット利用率に制約があることや、時には、反応モードにおいてターゲットの酸化に起因するプラズマの不安定性が生じることなどであった。