フラウンホーファー電子ビーム·プラズマ研究所(IV)

摘要

前回は，フラウンホーファー電子ビーム·プラズマ研究所（FEP）のコアコンビタンスのつである高速プラズマ活性化蒸着法としての①ホローカソード活性化蒸着法（Hollow cathode Activated Deposition；HAD）②スポットレスアーク活性化蒸着法（Spotless arc Activated Deposition；SAD）③ロッドカソードアーク活性化蒸着法（Rod cathode arc Activated Deposition；RAD）④指向性蒸着法（Directed Vapor Deposition；DVD）のうち①，②，③を紹介したが，今回はFEPの最新技術である④の指向性蒸着法（DVD）を紹介する。 これは，スキャニングEB（電子ビーム）ガンによる加熱で蒸発させた複数の物質蒸気を，Arなどのキャリアガスで強制的にトラップしながら一定方向に移送し，所定の場所（基板または基板の一部）に成模する技術であり，さらに、この蒸気に途中でホローカソードプラズマガンにより高密度プラズマを照射し，高い活性度での成膜を可能にするものである。