ナノフォトニクスとは：そのニーズとシーズ

摘要

新規の高機能デバイスを作製するために、微細加工技術の性能向上に対する要求が高まっている。 とくに、近年のナノテクノロジーの進歩を支えるために、ナノメートルの加工精度が要求されている。 本連載では、この要求を満たす新しい光加工技術について解説することを目的としている。 表には次回以降の記事の内容を列挙する。工業材料には、多岐にわたり基板の損傷や汚染のない「ソフトでクリーンな」加工法を用いることが有利である。 荷電粒子ビーム（電子、イオンなど）を用いた加工法が実用化されているが、それと比して光を用いる加工法は「ソフトでクリーンな」点で優位にある。 光リソグラフィがその代表例であり、図1はその技術ロードマップである。 ところで、光の波は空間的に広がろうとする性質（これは回折と呼ばれている）があるので、それを凸レンズで集光しても光のスポット径は波長以下の寸法にはならない。 そのために光リソグラフィでの加工可能なす法の限界は光波長程度であり、この限界は回折限界と呼ばれている。