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机译:通过高速物理气相沉积(HS-PVD)沉积(Ti,Al,Si)N涂层的后退火(HS-PVD)
Rhein Westfal TH Aachen Surface Engn Inst Kackertstr 15 D-52072 Aachen Germany;
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High speed physical vapor deposition (HS-PVD); TiAlSiN; Hollow cathode discharge (HCD); Post-annealing; Thick PVD coatings; Erosion;
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