...
首页> 外文期刊>RSC Advances >Effect of interfacial defects on the electronic properties of graphene/g-GaN heterostructures
【24h】

Effect of interfacial defects on the electronic properties of graphene/g-GaN heterostructures

机译:界面缺陷对石墨烯/ Ga-GaN异质结构的电子性质的影响

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
   

获取外文期刊封面封底 >>

       

摘要

To gain deep insights into their interactions, the effects of interfacial defects on the structural and electronic properties of graphene/g-GaN heterostructures were investigated by using first-principles calculations. The graphene/g-GaN-V-Ga heterostructure maintains a p-type Schottky contact in the spin-up channel and the Schottky barrier height (SBH) is decreased to 0.332 eV, but there is not a metal/semiconductor contact in the spin-down channel. However, the n-type SBH is negative for the graphene/g-GaN-V-N heterostructure, indicating an ohmic contact. Furthermore, the SBH in the graphene/g-GaN heterostructure can be effectively modulated by the interlayer distance. The research could provide a strategy for the development and fabrication of efficient novel nanoelectronic devices.
机译:为了深入了解它们的相互作用,通过使用第一原理计算研究了界面缺陷对石墨烯/ G-GaN异质结构结构和电子性质的影响。 石墨烯/ G-GaN-V-Ga异质结构在旋转通道中保持P型肖特基触点,并且肖特基势垒高度(SBH)降低至0.332eV,但旋转中没有金属/半导体接触 -down频道。 然而,N型SBH对于石墨烯/ G-GaN-V-N异质结构是阴性的,表示欧姆接触。 此外,石墨烯/ G-GaN异质结构中的SBH可以通过层间距离有效地调节。 该研究可以为高效新型纳米电子器件的开发和制造提供策略。

著录项

  • 来源
    《RSC Advances》 |2019年第24期|共6页
  • 作者单位

    Xian Univ Technol Sch Mat Sci &

    Engn Shanxi Prov Key Lab Elect Mat &

    Infiltrat Technol Xian 710048 Shaanxi Peoples R China;

    Xian Univ Technol Sch Mat Sci &

    Engn Shanxi Prov Key Lab Elect Mat &

    Infiltrat Technol Xian 710048 Shaanxi Peoples R China;

    Xian Univ Technol Sch Mat Sci &

    Engn Shanxi Prov Key Lab Elect Mat &

    Infiltrat Technol Xian 710048 Shaanxi Peoples R China;

  • 收录信息
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类 化学;
  • 关键词

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号