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Analysis of the effects of plasmas and beam slippage in optical klystron FEL devices

机译:速调管FEL器件中等离子体和束滑的影响分析。

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摘要

We examine here the effects of plasmas and beam slippage on the gain of an optical klystron (OK) free electron laser (FEL) device under the influence of a weak guiding magnetic field and background plasma. The beam energy spread decreases with background plasma density n(op) and increases with beam plasma density n(ob). The maximum gain (G(max)) scales proportional to n(op)(2). The beam slippage phase Delta psi scales directly to five power of relativistic factor gamma(o) and one half power to n(ob). (C) 2008 Elsevier B.V. All rights reserved.
机译:在这里,我们研究了在弱导磁场和背景等离子体的影响下,等离子体和电子束滑移对速调管(OK)自由电子激光(FEL)器件的增益的影响。束能量散布随背景等离子体密度n(op)减小,并随束等离子体密度n(ob)增大。最大增益(G(max))与n(op)(2)成比例。光束滑移相位Delta psi直接缩放为相对论因子gamma(o)的五次方,而另一方则为n(ob)。 (C)2008 Elsevier B.V.保留所有权利。

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