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机译:N2O等离子体处理在柔性基板上生长InOx的原子层沉积的电学性质以及重复机械应力下相关的薄膜晶体管行为的研究
atomic layer deposition; indium oxide semiconductor; mechanical stress; flexible TFT; N2O plasma treatment;
机译:N2O等离子体处理在柔性基板上生长InOx的原子层沉积的电学性质以及重复机械应力下相关的薄膜晶体管行为的研究
机译:通过原子层沉积在柔性基板上生长的铝掺杂ZnO薄膜的电和机械稳定性
机译:使用原子层沉积生长的多层沟道增强氧化物薄膜晶体管的电稳定性
机译:在聚萘二甲酸乙二醇酯基板上使用原子层沉积的具有垂直In-Ga-Zn-O沟道的柔性薄膜晶体管
机译:通过原子层沉积生长的纳米级氧化锆和氧化f电介质:结晶度,界面结构和电性能。
机译:机电应力同时作用对柔性In-Ga-Zn-O薄膜晶体管电性能的影响
机译:沉积后退火对通过等离子体增强原子层沉积在p-Si上生长的β-Ga2O3薄膜的电学性能的影响
机译:Cu / Nb薄膜多层膜的残余应力,力学行为和电学性能