首页> 外文期刊>Электронная Обработка Материалов >Образование высокоспиновых молекулярных кластеров марганца в монокристаллической матрице кремния и связанное с ними положительное
【24h】

Образование высокоспиновых молекулярных кластеров марганца в монокристаллической матрице кремния и связанное с ними положительное

机译:单晶硅基质中锰的高自旋分子簇的形成及其相关的正离子

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
           

摘要

Приводятся экспериментальные результаты изучения фотоэлектрических свойств и магнитосопротивления монокристаллических образцов кремния, имплантированных ионами марганца. Имплантация ионов марганца на полированную поверхность кремния p-типа (с удельным сопротивлением ρ =10 Ом·см при Т= 300 К) осуществлялась на установке ИЛУ-3 при энергии ионов 40 кэВ с дозой имплантации ~10{sup}16 ион/см{sup}2. Из пластин вырезались образцы размерами 5×3×0,3 мм{sup}3 и отжигались в атмосфере аргона при температуре 1000-1200℃ в течение одного часа. После отжига удельное сопротивление образцов ρ ~ 10{sup}5 Ом·см при Т= 300 К n-типом проводимости. Исследование фотоэлектрических свойств и магнитосопротивления полученных образцов позволяет сделать вывод о том, что в них образуются магнитные кластеры, подобные Mn{sub}6, Mn{sub}12 в кристаллической решетке кремния.
机译:提出了研究注入了锰离子的单晶硅样品的光电性能和磁阻的实验结果。在ILU-3装置上以40 keV的离子能量,在抛光的p型硅表面(电阻率ρ= 10欧姆·厘米,T = 300 K)上注入锰离子,注入剂量约为10 {sup} 16 ion / cm { sup} 2。从板上切下尺寸为5×3×0.3 mm {sup} 3的样品,并在氩气氛中于1000-1200℃的温度下退火一小时。退火后,在T = 300 K时,样品的电阻率为ρ〜10 {sup} 5欧姆·厘米,具有n型电导率。对获得的样品的光电性能和磁阻的研究使我们得出结论,类似于Mn {sub} 6,Mn {sub} 12的磁簇形成在硅晶格中。

著录项

获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号