電子·半導体工業の排水回収技術 - フッ酸、CMP排水処理

摘要

半導体工場では、素材であるシリコンウエハーに微細加工を施し高集積LSIを製造するが、この製造過程でフッ酸排水やさまざまな有機性排水が排出される。 また、近年はCMP研磨がウエハー加工工程で多用されることから、半導体製造工場の使用水量は増加することが予想されている。 この現状は工場での工業用水の取水制限の問題と絡まって、排水の再利用を一層重要としている。ここでは我々が製品化した電子·半導体工業の排水処理技術のなかから、水回収に有効なフッ酸排水処理技術ならびにCMP排水処理技術について本稿で紹介する。