廃熱回収兼ガス状汚染物除去エアワッシャ - 半導体工場におけるクリーンルーム取入外気の省エネ、清浄化

摘要

近年、半導体工場などのクリーンルームシステムでは、空気中のガス状汚染物（SO{sub}x、NO{sub}x、アンモニア、有機物）を制御、低減し製品の歩留りが低下するのを防止している。 これらガス状汚染物の許容レベルは半導体集積度の高度化に伴い厳しくなり、汚染物の種別によっては数ng/m{sup}3レベルに達している。 これら汚染物は、建築内装材、機械および資材、使用する薬品、作業員、導入外気等からクリーンルームに侵入、拡散し室内のガス濃度を上昇させている。