金属除去フィルタの効果：超純水からの超微量金属不純物の除去

摘要

電子デバイスの微細化、高集積化に伴いウエーハの洗浄プロセスで使用される超純水に要求される金属清浄度は益々厳しくならて来ている。 ITRS (International Technology Roadmap of Semiconductor 2006 updated)によるとフロントエンドプロセスでウエーハ表面の金属不純物の濃度を0.5×10{sup}10atoms/cm{sup}2以下と設定されている。 半導体製造工場のウエーハリンス工程で使用されている超純水の多くはそれぞれの金属で2ppt以下の金属不純物濃度に純化された超純水が使用されており、特に最先端のラインの一部では0.2ppt以下の金属不純物濃度にポリッシュした超純水が必要とされているようである。