高性能Post Cu-CMP洗浄剤の開発：次世代プロセス及び環境に対応した洗浄技術

摘要

本稿では、Cu-CMP後のウエット洗浄に求められる機能と課題の中で、特にパーティクル除去及び銅配線の腐食低減に焦点をあてたPost CMPにおける洗浄技術について、その課題と求められる要件を中心に紹介する。