6インチウェハ用超臨界微細構造乾燥装置－SRD法を適用した超臨界乾燥装置

摘要

1990年代から、CPD法は電子デバイス製造の基礎研究にも使われ始めており、日本電信電話㈱NTT物性科学基礎研究所 生津英夫博士のCPD法の原理を応用した水分制御型超臨界乾燥法（Supercritical Resist Drying：以下SRD法と略記）の開発により、レジストパターン等の微細構造形成に有効であることが示されている。今回紹介するSRD-2060は、主にMEMS分野を対象とした6インチウェハ対応のSRD法を適用した微細構造乾燥装置である。